UltraL H2 EST UNE GammeSpécifiquementDestinéeàLa净化D'HydrogèneGaameux。La Technologie D'Adsorption Mise ENœUVRE权限D'ÉliminerLESMUTETÉSDEL'IALY COMPLIC L'AZOTE et CEJusqu'àdsTENEURSIFÉrieuresau ppb。Le Principe De PrificationReéversibledsmuretéssur leversible desimuretéssur联合国吸附剂高级性能。

伽马

	5/20	20/100	100/300.	300/650
Débitmax（nm3 / h）	20.	100.	300	650.
Débit迷你（nm3 / h）	1	4.	12.	25.
同时LN2（L / H）	2	5.	16.	45.
最大ÉlectriqueMax（kW）	6.	6.	11.	17.

Plaquette Electronique＆Optoélectronique

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Bénéfices谱号

EPURATEUR自动座简单D'利用AVECÉCRANDETULTLELE触觉
Deux Colonnes De Prinification NonParallèleafin d'保险柜Une pureificed继续et自动升水阁德里拿内24h / 24h
Technologie InduantUneeRégénirration自动议员Des Colonnes De Purification：Pas De Cartouchesà更换者！
EPURATEUR FONINGNANT EN模式净化àqupératuredogénique（-196°C）au lieu des 420°C typiques d'un getter：sécuritéaccrue！
Technologie Advertant des Pics dedébitou d'imuretésans更改des表演
联合国DES CONETS D'ESHILOITITITE LES PLUS BAC DUMARCHÉ

临床致癌技术

压力D'利用率：de5à18bar
Débit：De5à650nm3/ h（en fonction de la gamme）
Perte De Charge：<1,3 Bar（à7barennentée）
RégénérationSesColonnes阵挛性Chaud
表演：

Imuretés.	Entrée（ppm）	Sortie（PPB）
N2.	500.	<1
O2	5.	<1
二氧化碳	5.	<1
H2O.	5.	<1
CO.	5.	<1

Coïtsd'剥削

规范

CE - ASME - AQSIQ（CHINE） - HPGSL（日本）

参考

stmicroelectrone.
amd.
atmel.
IMEC.
在半导体上

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